сверхвысокая вакуумная многокамерная физическая система осаждения в газовой фазе

сверхВысококачественная многокамерная физическая система осаждения в газовой фазе (PVD)

Система, изготовленная профессиональными производителями осадочного оборудования, оснащена несколькими способами осаждения (зарезервированы различные функциональные интерфейсы), очень гибкой и идеально подходит для научных исследований по нескольким моделям осаждения.

В настоящее время система имеет режим осаждения в условиях сверхвысокого вакуума (только механические + молекулярные насосы, предельный вакуум до 5X10E - 10Torr). Несколько комбинированных моделей осаждения, одна и та же полость для достижения нескольких функциональных методов осаждения, модель источника осаждения:
Магнитный источник распыления
Электронно - пучковый источник испарения
Источник теплового испарения
Система очень гибкая, программное обеспечение удобно в эксплуатации, специализируется на осаждении сверхчистых пленок для исследовательских институтов и является настоящей сверхвысокой вакуумной осадочной системой.
Технические параметры:
Предельный вакуум: < 5x 10E - 10 torr (после 24 - часового охлаждения при выпечке);
Равномерность покрытия: < 3%
Передача образцов: удобное размещение верхней подложки
Шкаф: небольшая конструкция, занимающая пространство;
Работа стенда образцов: вращение, нагрев, смещение загрузки;
Операция с образцами: вакуумная камера предварительного отбора;
Размер образца: 1 ", 2", 3 ", 4", 8 ", 12" и т.д.;
Мониторинг толщины мембраны: микровесы на кварцевых кристаллах, эллипсометр;
Выпекание: встроенный или наружный нагрев с изоляцией;
Простая и удобная полностью автоматическая работа с программным обеспечением: полностью автоматическая откачка вакуума и автоматическая работа программы.