Система PECVD с двухтемпературным скольжением при предварительном нагревании 1200°C

Применение продукции:два

Система PECVD ионизирует газ, содержащий атомы, состоящие из тонкой пленки, с помощью радиочастот, образуя плазму локально, в то время как плазма обладает высокой химической активностью и легко реагирует, осаждая желаемую пленку на основной пластине.

Состав продукции:

Настройка системы PECVD:

Вакуумная трубчатая печь с открытой двойной температурой 1.1200 градусов

2. Система скольжения делится на ручное, электрическое скольжение и оснащена системой измерения температуры в трубке.

3. Открытая трубчатая электрическая печь с предварительным подогревом

4. Плазменный радиочастотный источник

5. Многоканальная система контроля качества и расхода

6. Вакуумные системы (факультативное сочетание среднего или высокого вакуума)

Характеристики продукта:

Низкая температура роста; Быстрые темпы осаждения; Племмообразование хорошего качества, широкий диапазон применения, оборудование простое.

Тяньцзиньская центральная электрическая печь с ограниченной ответственностью адрес: Тяньцзинь, район Бэйчэн, научно - технический парк Бэйчэн, Шуанчуань - роуд, 11