изображение открытого поля

Тёмныйизображение открытого поляПринцип:Профиль изображения яркого темного поля образца кристаллической пленки (т. е. разница в яркости и темноте между различными областями) формируется из - за различий в интенсивности дифракции, вызванных различиями в структуре или ориентации различных частей образца, и поэтому называется дифракционной футеровкой, а изображение, образованное на основе механизма дифракционной футеровки, называется дифракционной футеровкой.
Если только пропускающий луч может быть изображен через объективную световую панель, это называется изображением открытого поля; Если допускается изображение только одного диэлектрического луча через объективную световую панель, это называется изображением темного поля.
Что касается дифракционной футеровки, то различия в структуре или ориентации различных частей образца на самом деле проявляются в степени удовлетворения или отклонения от условий Брага. Область, удовлетворяющая условиям Брага, имеет более высокую прочность дифракционного луча, в то время как интенсивность проницаемого луча относительно слаба, а поле с прозрачным лучом имеет темную футеровку, как область; Напротив, область, отклоняющаяся от условий Браггера, имеет более слабую прочность дифракционного луча и относительно высокую интенсивность пропускающего луча, и область показывает яркость на изображении открытого поля. В то же время футеровка в изображении темного поля связана с выбором того, какой дифракционный луч изображен. Если в кристалле, при дифракционных условиях двойного луча, изображение открытого поля имеет противоположную футеровку по сравнению с изображением темного поля.

Тёмная визуализация является основным и часто используемым техническим методом линз, его работа относительно проста, здесь кратко описаны только операции изображения темного поля и его ключевые моменты следующим образом:

(1) Поиск интересующего поля зрения под изображением открытого поля.

(2) Вставить световую панель избирательного округа вокруг выбранного поля зрения.

Легкий Автоизображение открытого поля

Параметры конфигурации

условия труда
(1) Температура окружающей среды: 0 - 40°С
(2) Относительная влажность: 0 - 100% RH
(3) Рабочее напряжение: 100 - 250В

Применение:Быстрая клеточная визуализация, интеллектуальная мультифлуоресцентная съемка временных рядов каналов.

направление применения
(1) Клеточная токсичность, клеточный скрининг лекарств (тест на медленную вирусную транскрипцию).
(2) Эксперименты с цитопатией.
(3) Первичное сито белкового субклеточного позиционирования (многоканальная флуоресцентная визуализация, антигенная экспрессия опухолевых клеток, структурные характеристики клеток, роль и механизм противоопухолевых препаратов и т.д.).
(4) Клеточная культура в условиях низкого кислорода.
(5) Мониторинг стволовых клеток, пролиферация и дифференциация стволовых клеток.
(6) Условная оптимизация экспериментов клеточного анализа.
(7) Исследования движения клеток, миграции клеток (анализ царапин).

20x объектив клетки фолликулов насекомых (наблюдение открытого поля)